Գործընթացի հատուկ գազ, որն օգտագործվում է TFT-LCD-ի արտադրության գործընթացում CVD նստեցման գործընթացում՝ սիլան (S1H4), ամոնիակ (NH3), ֆոսֆոր (pH3), ծիծաղ (N2O), NF3 և այլն, և ի լրումն գործընթացի բարձր մաքրության ջրածին և բարձր մաքրության ազոտ և այլ խոշոր գազեր։Արգոն գազը օգտագործվում է ցողման գործընթացում, իսկ թաղանթի գազը ցողման հիմնական նյութն է։Նախ, թաղանթ ձևավորող գազը չի կարող քիմիապես փոխազդել թիրախի հետ, և ամենահարմար գազը իներտ գազն է:Փորագրման գործընթացում կօգտագործվի նաև մեծ քանակությամբ հատուկ գազ, իսկ էլեկտրոնային հատուկ գազը հիմնականում դյուրավառ և պայթուցիկ է, իսկ խիստ թունավոր գազը, ուստի գազի ուղու պահանջները մեծ են։Wofly Technology-ն մասնագիտացած է ծայրահեղ բարձր մաքրության տրանսպորտային համակարգերի նախագծման և տեղադրման մեջ:
Հատուկ գազերը հիմնականում օգտագործվում են LCD արդյունաբերության մեջ ֆիլմերի ձևավորման և չորացման գործընթացներում:Հեղուկ բյուրեղային էկրանն ունի դասակարգման լայն տեսականի, որտեղ TFT-LCD-ն արագ է, պատկերի որակը բարձր է, և արժեքը աստիճանաբար նվազում է, և ներկայումս օգտագործվում է ամենաշատ օգտագործվող LCD տեխնոլոգիան:TFT-LCD վահանակի արտադրության գործընթացը կարելի է բաժանել երեք հիմնական փուլերի՝ առջևի զանգված, միջին ուղղվածությամբ բռնցքամարտի գործընթաց (CELL) և հետփուլային մոդուլի հավաքման գործընթաց:Էլեկտրոնային հատուկ գազը հիմնականում կիրառվում է նախորդ զանգվածային գործընթացի թաղանթի ձևավորման և չորացման փուլի վրա, և համապատասխանաբար տեղադրվում են SiNX ոչ մետաղական թաղանթ և դարպաս, աղբյուր, արտահոսք և ITO, և մետաղական թաղանթ, ինչպիսին է դարպասը, աղբյուր, drainandITO.
Ազոտ / թթվածին / Արգոն չժանգոտվող պողպատ 316 կիսաավտոմատ փոխարկիչ Գազի կառավարման վահանակ
Հրապարակման ժամանակը` Հունվար-13-2022